GENCOA社独自のエンドブロック及びマグネット技術(特許取得)を搭載した、2台のロータリーカソードを用いた低ダメージシステムです。
フィルムへの成膜では、ダメージレスの方式が重要です。
反応性スパッタで、PEM(商品名スピードフロー)を用い、酸化物などを高速に成膜し、またデュアルカソードとして使うことで、低ダメージ(非対称マグネット、傾斜磁場カソード)を実現します。デュアルロータリーカソードの利用は、利用率が高いことと、2台利用しているために、ターゲット交換頻度を大幅に減らすことが可能となります。
ロールコーター、インライン型のスパッタ装置に向いています。
下図は、磁場をリンクさせた場合とさせない場合の磁力線、磁場を傾けた場合とそのままの場合を比較しています。
磁場をリンクさせ、さらに傾斜させることで、高い密度のプラズマを欲しい場所に安定して作ることができ、緻密性の高い膜を低ダメージで作成可能になります。
酸化物や窒化物などの化合物膜に特に有効ですが、Alあるいは
Cuなどの金属ターゲットを用いたメタル成膜にも特性向上、コストダウンに有効です。
マグネットが冷却水に水没するタイプの為に、冷却性能は高くなり、金属ターゲットを用いることで
比較的大きなパワーを入れられます。
ロータリーカソード外観
デュアルにしたロータリーカソード
PEMを用いて高速成膜にした構成
センサーヘッドが見える。
磁場をリンクし、磁場を傾けたデュアルカソードでの放電の様子(Alターゲット)
左は、磁場をリンクした方式、右は磁場をリンクしな
い従来の方式での磁力線のシミュレーション
左は、磁場をリンクした方式での電子の動き、右は、
磁場をリンクしない従来の方式での電子の動き。右
の場合に、電子が逃げて、不安定。左は両カソード間
で電子がトラップされる。
磁石を傾けた場合の図
任意の角度に調整可能
左は、磁石を傾けない場合、右は磁石を傾け
た場合の放電のシミュレーション。プラズマの
位置を調節できる。
デュアルカソード内の非対称マグネティック配置(リンク型磁場構成)と傾斜
磁場により基板へのダメージを減らしたロータリーカソード(特許)システム
説明図
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