低ダメージカソードシステム

(デュアルロータリーカソードを用いた高速成膜プロセス)


 

 

GENCOA社独自のエンドブロック及びマグネット技術(特許取得)を搭載した、2台のロータリーカソードを用いた低ダメージシステムです。

フィルムへの成膜では、ダメージレスの方式が重要です。

 

反応性スパッタで、PEM(商品名スピードフロー)を用い、酸化物などを高速に成膜し、またデュアルカソードとして使うことで、低ダメージ(非対称マグネット、傾斜磁場カソード)を実現します。デュアルロータリーカソードの利用は、利用率が高いことと、2台利用しているために、ターゲット交換頻度を大幅に減らすことが可能となります。

 

ロールコーター、インライン型のスパッタ装置に向いています。

 

下図は、磁場をリンクさせた場合とさせない場合の磁力線、磁場を傾けた場合とそのままの場合を比較しています。

磁場をリンクさせ、さらに傾斜させることで、高い密度のプラズマを欲しい場所に安定して作ることができ、緻密性の高い膜を低ダメージで作成可能になります。

 

 

酸化物や窒化物などの化合物膜に特に有効ですが、Alあるいは

Cuなどの金属ターゲットを用いたメタル成膜にも特性向上、コストダウンに有効です。

 

マグネットが冷却水に水没するタイプの為に、冷却性能は高くなり、金属ターゲットを用いることで

比較的大きなパワーを入れられます。

 

 

 

 

 

ロータリーカソード外観

 

 

デュアルにしたロータリーカソード

PEMを用いて高速成膜にした構成

センサーヘッドが見える。


 

 

 

 

磁場をリンクし、磁場を傾けたデュアルカソードでの放電の様子(Alターゲット)

 

 

  左は、磁場をリンクした方式、右は磁場をリンクしな

  い従来の方式での磁力線のシミュレーション

 

 左は、磁場をリンクした方式での電子の動き、右は、

 磁場をリンクしない従来の方式での電子の動き。右

 の場合に、電子が逃げて、不安定。左は両カソード間

 で電子がトラップされる。

 


 

磁石を傾けた場合の図

任意の角度に調整可能

 

 

  左は、磁石を傾けない場合、右は磁石を傾け

  た場合の放電のシミュレーション。プラズマの

  位置を調節できる。

 


 

  デュアルカソード内の非対称マグネティック配置(リンク型磁場構成)と傾斜

  磁場により基板へのダメージを減らしたロータリーカソード(特許)システム

  説明図

 

  お問い合わせ   earth-tech@r9.dion.ne.jp